한국전기연구원, 세계 굴지 기업·연구소 앞선 쾌거

오현석 박사팀, 대면적 나노패턴 인쇄 정면 돌파
생산공정 단축…도전 불가능 혁신제품도 제작

차세대 반도체 및 디스플레이·태양전지 등의 양산에 필요한 최첨단 핵심기술임에도 불구하고 그동안 난공불락으로 여겨졌던 ‘꿈의 나노노광장비’(원통형 대면적 나노패턴 인쇄장비)의 원천기술이 유럽, 일본 등 세계 굴지의 기업·연구소에 앞서 한국전기연구원 오현석 박사팀에 의해 세계 최초로 개발됐다.
이번에 개발된 원천기술은 자기부상기술을 응용한 원통형 나노스테이지와 이를 이용한 나노노광장치로 대면적 나노패턴 인쇄에 새로운 돌파구를 열 것으로 기대하고 있다.
우선 기존에 한국전기연구원이 보유한 자기부상기술을 응용하여 진공 속에서 원통모양의 금형소재를 공중에 띄워서 초정밀하게 회전 및 이송할 수 있는 기술을 개발했다. 또한 이 원통소재를 빛으로 가공하여 대면적 나노패턴을 원통금형의 둘레에 이음매 없이 자유자재로 인쇄할 수 있는 나노노광장치를 제작하여 시험 중에 있다. 이러한 나노노광장치를 이용하면 마치 롤러로 굴리듯이 차세대 반도체 소자나 디스플레이용 필름 및 태양전지의 기판 등에 나노패턴을 대면적으로 연속 인쇄할 수 있는 원통금형을 제작할 수 있다.
이것은 국내 반도체 및 디스플레이업계의 오랜 숙원인 나노미터급의 정밀도를 가진 대면적 인쇄전자기술의 가능성을 제시한 것으로, 향후 우리나라가 차세대 반도체·디스플레이 분야에서 세계 시장을 주도하는데 크게 기여할 것으로 전망된다.
이번에 개발된 원천기술은 전량 수입에만 의존하던 고부가가치 제품, 예를 들어 △엘시디(LCD)용 고휘도 광학필름 △차세대 디스플레이 제품용 광학 소자 △전자기기 외장 고급화용 필름 △화폐 및 상품권 보안용 홀로그램 필름 △고효율 태양전지 및 연료전지 패널 △전파식별(RFID) 태그 △고휘도 엘이디(LED) 조명 등 각종 대면적 마이크로 및 나노패턴 가공기술을 응용한 제품에 적용할 수 있다.
특히 그동안 인쇄전자 기술의 한계로 인해 도전할 수 없었던 독창적이고 혁신적인 다양한 제품개발을 통한 새로운 응용산업의 출현을 촉진하고 기존의 공정을 대체함으로써 생산 공정의 대폭적인 단축 및 생산성 향상을 가능하게 하여 전 세계 반도체, 디스플레이, 태양전지 등의 업계에 큰 변혁을 몰고 올 것으로 예상된다.
이번 기술은 한국전기연구원을 중심으로 참여업체인 ㈜상진미크론, ㈜쓰리에스엠케이(3SMK)가 3년에 걸쳐 100억여 원의 연구비를 투자하여 공동개발했으며, 핵심 공정 및 장비와 관련한 원천기술을 독자적으로 확보하여 총 8건의 국내외 특허를 출원해 놓고 있다.
현재 오현석 박사팀은 밀양나노센터 내에 청정실을 구축하여 원통형 나노노광장비 개발을 업체와 공동으로 추진하고 있으며, 2010년 제품 출시를 목표로 하고 있다.
인쇄전자 분야에서는 2015년에 250억 달러의 새로운 시장이 형성될 것으로 기대되며, 연 평균 5~10%의 성장이 예상되고 있다.